不过这样一来也让很多人虽然明知道这份材料接下来的部分可能会更加精彩。更有价值，但是都不想继续研究下去了。这太坑人了，每次都是在最关键的部分动刀子，不带这么玩人的吧？
当然这种情绪也只能在心头抱怨。毕竟大家都是在工作，自然不能随便撂担子，不过话说回来，抛去资料关键点被粗暴的划去这一点不谈，这份资料对这些研发人员的吸引力也是极大的，起码能给他们开拓思路不是？
接下来关于如何提升光源强度等等问题都进行了详细论述。甚至在资料最后还给出了光掩模板的无瑕疵解决方案，当然最关键的部分都同样被掩盖了。
不过即便是这样也没有人敢小觑天书科技，或者说天书科技所代表的华夏在光刻机研发进程了。不过在跟研发人员一起把这些资料大概的浏览跟探讨后，山口达也完全不明白王正宇这是卖的什么药了。
有了这些技术，天书科技似乎完全有能力将自己的光刻设备生产出来。虽然新型的euv光刻技术的关键部分都被隐去，让他无法判断这些资料是否真的完全解决了这些难点。但是生产现在有的193nm沉浸式光刻技术的光刻机却是完全没有了任何技术障碍。他为什么专门找到尼康来购买光刻机设备？这人该不会是无聊到专门跑到日岛来调戏尼康的吧？
想到不久前的会面，自己似乎还激动的嘲讽过对面那个年轻人把光刻技术想的太简单了，现在看来不是他把光刻技术想的太简单了，而是自己把他想的太简单了。
两份资料带给他的震撼加上满脑子的疑问。甚至让山口达也都忘了时间。他甚至没有感觉到他竟然已经在研发部内呆了十六个小时，现
178 愚人节的玩笑?(2/6)