“首先是材料，高纯度的硅依赖于进口，不仅贵，而且被国外卡了脖子。”
“当然，这个难点已经被解决了！”
“毕竟我们不再使用高纯硅，而是使用江南教授制造的完美石墨烯。”
“其中第三个难点设备，也不需要我多说，无非就是光刻机的问题。”
“过去我国一直没有光刻机，尤其是高端EUV光刻机，一直被国外封锁限制。”
“虽然前几年我们已经研发出了普通的DUV光刻机，最高也能制造出7nm芯片，但要经过多次曝光，使得成本飙升，良品率也难以控制，目前没法实现生产。”
“可如果放弃7nm芯片，而专攻10nm或者14nm，那在性能上就远不如国外。”
“当然，这个难点也勉强被解决了！”
“设备不行，那就性能来凑！”
“有了完美石墨烯这种新材料，其本身性能是高纯硅的千百倍。”
“即便没有高端光刻机，而只使用普通的DUV光刻机，或者其它技术。”
“比如用冰刻代替光刻，只要能制造出芯片，那性能必然不会弱于国外的芯片。”
“所以说……”
“以上都不再是难点。”
“但这两点难点解决了，不代表碳基芯片立马可以制造出来，毕竟咱们还存在一个中间环节，那就是技术难点。”
“虽然第一个技术难点，将完美石墨烯扭结θ度，用来制造晶体管和逻辑门也被江南教授解决了，但后续还有很多难点。”
“如电路结构、EDA工具、制造程序、条件保障等方面的复杂性……”
第634章 升级优化eda工具，难如登天？(2/5)