过来的。
灯光明亮的实验室中，听到声音后，另一名正在按照直播进行再次掺杂铝离子的中年男子迅速起身走过去，从青年手中接过资料翻阅了起来。
“一次渗透率为1.01325×10-15md。”
“二次渗透率为1.78314×12-15md。”
“........”
“一次渗透碳原子的dpa为18.3.......。”
“二次渗透碳原子的dpa为32.1.......。”
........
“这不可能！”
看到最后dpa损伤结果，中年组长瞬间脱口而出，满脸的不敢置信。
这一组资料上的数据，实在是太令人震惊了。
一次渗透碳原子的dpa损伤只有18.3，这怎么可能？
哪怕是风车国那边最先进的离子注入，碳化硅晶材中的碳原子损伤也会达到三位数以上。
更关键的是，这种方式二次渗透的都只有低两位数的dpa损伤。
这是上帝才能做到事情。
这样低的渗透损伤率，如果应用到芯片的制造上.......。
实验室的中年组长已经不敢再想下去了。
正如华国京城某间实验室中一样，这样的场景不断重复在世界各地中。
模拟空间中，一下午的时间很快就过去了。
经历过整整六次的渗透处理后，太阳也下山了。
但今天的直播到现在还不能停下。
渗透处理过后的碳化硅晶材需要更进一步处理，将刚注入的铝离子稳定下来，形成可用的n-漂移层。
至于稳
第一百八十五章：N-漂移层(3/4)